Advanced mask aligner lithography: fabrication of periodic patterns using pinhole array mask and Talbot effect.
Stuerzebecher
Lorenz
L
Fraunhofer Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF, Jena, Germany. lorenz.stuerzebecher@iof.fraunhofer.de
Harzendorf
Torsten
T
Vogler
Uwe
U
Zeitner
Uwe D
UD
Voelkel
Reinhard
R