title: At-wavelength metrology facility for soft X-ray reflection optics.
abstract: A new Optics Beamline coupled to a versatile UHV reflectometer is successfully operating at BESSY-II. It is used to carry out at-wavelength characterization and calibration of in-house produced gratings and novel nano-optical devices as well as mirrors and multilayer systems in the UV and XUV spectral region. This paper presents most recent commissioning data of the beamline and shows their correlation with initial beamline design calculations. Special attention is paid to beamline key parameters which determine the quality of the measurements such as high-order suppression and stray light behavior. The facility is open to user operation.
authors.affiliation: Helmholtz Zentrum Berlin für Materialien und Energie, Institut für Nanometer Optik und Technologie, Albert-Einstein-Str. 15, 12489 Berlin, Germany.
authors.forename: A
authors.initials: A
authors.lastname: Sokolov
authors.affiliation: Helmholtz Zentrum Berlin für Materialien und Energie, Institut für Nanometer Optik und Technologie, Albert-Einstein-Str. 15, 12489 Berlin, Germany.
authors.forename: P
authors.initials: P
authors.lastname: Bischoff
authors.affiliation: Helmholtz Zentrum Berlin für Materialien und Energie, Institut für Nanometer Optik und Technologie, Albert-Einstein-Str. 15, 12489 Berlin, Germany.
authors.forename: F
authors.initials: F
authors.lastname: Eggenstein
authors.affiliation: Helmholtz Zentrum Berlin für Materialien und Energie, Institut für Nanometer Optik und Technologie, Albert-Einstein-Str. 15, 12489 Berlin, Germany.
authors.forename: A
authors.initials: A
authors.lastname: Erko
authors.affiliation: Helmholtz Zentrum Berlin für Materialien und Energie, Institut für Nanometer Optik und Technologie, Albert-Einstein-Str. 15, 12489 Berlin, Germany.
authors.forename: A
authors.initials: A
authors.lastname: Gaupp
authors.affiliation: Helmholtz Zentrum Berlin für Materialien und Energie, Institut für Nanometer Optik und Technologie, Albert-Einstein-Str. 15, 12489 Berlin, Germany.
authors.forename: S
authors.initials: S
authors.lastname: Künstner
authors.affiliation: Helmholtz Zentrum Berlin für Materialien und Energie, Institut für Nanometer Optik und Technologie, Albert-Einstein-Str. 15, 12489 Berlin, Germany.
authors.forename: M
authors.initials: M
authors.lastname: Mast
authors.affiliation: Helmholtz Zentrum Berlin für Materialien und Energie, Institut für Nanometer Optik und Technologie, Albert-Einstein-Str. 15, 12489 Berlin, Germany.
authors.forename: J-S
authors.initials: JS
authors.lastname: Schmidt
authors.affiliation: Helmholtz Zentrum Berlin für Materialien und Energie, Institut für Nanometer Optik und Technologie, Albert-Einstein-Str. 15, 12489 Berlin, Germany.
authors.forename: F
authors.initials: F
authors.lastname: Senf
authors.affiliation: Helmholtz Zentrum Berlin für Materialien und Energie, Institut für Nanometer Optik und Technologie, Albert-Einstein-Str. 15, 12489 Berlin, Germany.
authors.forename: F
authors.initials: F
authors.lastname: Siewert
authors.affiliation: Helmholtz Zentrum Berlin für Materialien und Energie, Institut für Nanometer Optik und Technologie, Albert-Einstein-Str. 15, 12489 Berlin, Germany.
authors.forename: Th
authors.initials: T
authors.lastname: Zeschke
authors.affiliation: Helmholtz Zentrum Berlin für Materialien und Energie, Institut für Nanometer Optik und Technologie, Albert-Einstein-Str. 15, 12489 Berlin, Germany.
authors.forename: F
authors.initials: F
authors.lastname: Schäfers